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一文解读半导体掩膜版
  • 更新日期: 2025-01-15
  • 浏览次数: 2542
晶圆制造核心材料 掩膜版,亦称光罩,是微电子制造领域内光刻工艺不可或缺的核心组件,其角色相当于传统摄影中的“底片”,扮演着承载精密图形设计和技术知识产权信息的媒介角色。这一技术广泛应用于半导体生产、平板显示制造、电路板生产及触控屏产业等多个高科技领域。依据最终应用领域的差异,掩膜版被细分为平板显示掩膜版、……
BOAT(晶舟):承载和传送晶圆的工具
  • 更新日期: 2025-01-15
  • 浏览次数: 2134
在半导体集成电路(IC)制造过程中,BOAT(晶舟)是一种常用的工具,主要用于承载、传送、清洗和处理芯片。它的作用类似于运输工具,确保芯片在复杂的制造工艺中能够顺利、安全地完成各个环节的处理。 一、BOAT的定义与功能 BOAT是半导体制造过程中用于承载和传送芯片的工具。它的名称“晶舟”形象地比喻了其在半导……
晶圆定位边(wafer flat)和凹槽(notch)之间的关系
  • 更新日期: 2025-01-15
  • 浏览次数: 2122
晶圆定位边(wafer flat)和凹槽(notch)是晶圆制造过程中用于确定晶圆方向的重要特征,它们在晶圆的加工、对准和检测中发挥着至关重要的作用。 1. 晶圆定位边(Wafer Flat) 晶圆定位边是指晶圆外缘上平直的部分,它用于标记晶圆的特定方向,确保在晶圆的加工和处理过程中,晶圆能够正确地对准。可……
为什么晶圆的边需要铺满电路?
  • 更新日期: 2025-01-15
  • 浏览次数: 1506
晶圆制造工艺是半导体生产中的关键步骤,晶圆的边缘区域对整个制造过程和成品良率具有重要影响。 1. 防止边缘效应影响芯片质量 边缘效应指的是由于晶圆边缘的处理不同于中心区域,导致的电学和物理性能的差异。晶圆边缘由于距离加工工具较远或光刻曝光时的处理不均,可能会出现性能不稳定的情况。比如,金属层和通孔的连接可能……
SIA:敦促美国贸易代表办公室谨慎行事,并与业界密切合作
  • 更新日期: 2024-12-26
  • 浏览次数: 1676
2024年12月23日,美国贸易代表办公室宣布对中国成熟制程芯片发起301条款调查。对此,美国半导体行业协会(SIA)总裁兼首席执行官 John Neuuffer发布声明回,内容涉及拜登政府决定发起 301 条款贸易调查,重点关注中国与针对半导体行业占据主导地位相关的行为、政策和做法。 以下为声明原文: 中……
英诺赛科即将登陆港股:氮化镓分立器件累计出货量全球第一!
  • 更新日期: 2024-12-23
  • 浏览次数: 1901
氮化镓龙头大厂英诺赛科(苏州)科技股份有限公司(以下简称“英诺赛科”)于今年6月正式向香港证券交易所递交了IPO上市申请之后,12月12日晚间,根据港交所披露的信息显示,英诺赛科已经通过上市聆讯,并披露聆讯后资料集。 根据计划,英诺赛科将全球发售4536.4万股H股,发售价区间为每股30.86港元至33.……
英特尔股东起诉前CEO基辛格:要求退还2.07亿美元收入
  • 更新日期: 2024-12-23
  • 浏览次数: 2102
12月20日消息,据The Register 报道,英特尔股东 LR Trust 已对英特尔高管提起诉讼,指控英特尔前首席执行官帕特·基辛格 (Pat Gelsinger) 和英特尔临时联合首席执行官兼首席财务官大卫·津斯纳 (David Zinsner) 管理不善、误导性披露,并要求将他们获得的赔偿金和其他收益退还给……
FAB中PIE的作用和要求
  • 更新日期: 2024-12-18
  • 浏览次数: 2195
工艺整合工程师(Process Integration Engineer,PIE) 是半导体制造领域的重要岗位,负责协调和优化整个芯片制造流程中的工艺整合。这一角色需要将多个制造工艺步骤整合为一个无缝的流程,以确保芯片的性能、良率和可靠性。 一、核心职责 1、工艺整合 将不同的工艺模块(如光刻、蚀刻、……
描述晶圆薄膜厚度的单位:埃
  • 更新日期: 2024-12-18
  • 浏览次数: 1971
1、什么是埃(Angstrom)? 埃(符号:Å)是一种非常小的长度单位,主要用于表示微观领域的尺度,例如原子、分子之间的距离,或者晶圆制造中的薄膜厚度。1 Å 等于 (10^{-10}) 米,也就是0.1纳米(nm)。为了更直观地理解这个概念,我们可以通过以下比喻说明: 一根人的头发直径约为70,000纳……
SMIC MPW班车表中如何理解AT、MV、HE、ATV?
  • 更新日期: 2024-12-18
  • 浏览次数: 1619
"AT"、"MV"、"HE"、"ATV"实际上是SMIC在其晶圆制造工艺中使用的一些标识符,通常与特定的工艺、技术类型和特色流程相关。SMIC 2025 MPW 班车表如下: 1. AT — Advanced ……
晶圆刻蚀工艺中的Qtime管控
  • 更新日期: 2024-12-18
  • 浏览次数: 2533
Qtime管控(Queue Time Control)是半导体制造过程中一个重要的和效率管理环节,尤其在刻蚀工艺(ETCH)中显得尤为重要。 一、Qtime的定义和重要性 Qtime(Queue Time)即“排队时间”,是指在生产流程中,某一工序或设备在接收到任务后,等待处理的时间。具体来说,Qtime是指晶圆在一个工序的前一工序完成到该工序开始的时间间隔。在刻蚀工艺中,Qtime主要是指晶圆在不同的刻蚀步骤之间的等待时间,或者从晶圆进入刻蚀机到开始刻蚀的时间。 Qtime的管控至关重
如何理解晶圆制造的生产周期时间(Cycle Time)
  • 更新日期: 2024-12-09
  • 浏览次数: 2360
作为晶圆制造中的核心指标之一,生产周期时间(Cycle Time,简称CT)对于衡量制造效率和产能至关重要。 1. 什么是生产周期时间? 生产周期时间是指从生产原料(如硅片)进入生产线,到最终产品(如完成制造的晶圆或芯片)从生产线输出所需要的全部时间。在晶圆制造领域,Cycle Time 是衡量生产效率、分……

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